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MPD-2A金相試樣磨拋機(jī)是我廠近期研發(fā)的一款設(shè)備雙盤(pán)雙工位磨拋機(jī)，機(jī)身采用ABS整體注塑，具有耐沖擊、耐腐蝕等特點(diǎn)，相比金屬外殼，其外形也更加流暢，美觀。密封式進(jìn)出水結(jié)構(gòu)；流水與線路板隔開(kāi)。超大超深磨樣室，有效阻擋冷卻水及磨拋液外濺，研磨拋光較大工件時(shí)操作更加方便。
該設(shè)備適用于金屬、陶瓷、巖石、電子器件等各類(lèi)樣件的精密研磨拋光，本機(jī)集粗磨、精磨、拋光等功能與一體，更換砂紙方便快捷，具備多種磨拋盤(pán)選擇，滿足各類(lèi)實(shí)驗(yàn)的研磨拋光要求。
二、產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、采用整體注塑外殼設(shè)計(jì)
2、密封式進(jìn)排水系統(tǒng)
3、多種磨拋盤(pán)選擇(200mm、230mm 、250mm、 300mm)
4、雙盤(pán)雙控雙工位系統(tǒng)
5、轉(zhuǎn)速具備(定速和無(wú)極調(diào)速)
6、轉(zhuǎn)速方式:正反轉(zhuǎn)任意調(diào)節(jié)
7、360度任意旋轉(zhuǎn)水龍頭
三、技術(shù)規(guī)格：
1、機(jī)體形式：臺(tái)式雙盤(pán)
2、控制方式：雙盤(pán)雙控
3、磨盤(pán)轉(zhuǎn)速：無(wú)極調(diào)速100-1450轉(zhuǎn)/分鐘+四檔定速
4、轉(zhuǎn)速方式:雙轉(zhuǎn)向（正反轉(zhuǎn)）
5、主機(jī)功率：1100W（550W×2）
6、磨盤(pán)直徑：φ230mm （可選配φ200、φ250、φ300mm等規(guī)格）
7、出水噴灑：萬(wàn)向可調(diào)
8、外形尺寸：850×750×450mm
9、電源 ：220V
四、常用耗材：
1、金相砂紙：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于常規(guī)金屬類(lèi)樣件的研磨。
2、金剛石磨盤(pán)：240、600、1000、1500#(其他規(guī)格400、2000#等）適用于超硬材料樣件的研磨。
3、金剛石砂紙：粒度：45-0.3um(適合超硬材料的精密研磨及粗拋，如陶瓷、晶體等材料）。
4、拋光布料：呢料、絲絨、羊毛等（對(duì)特殊材料也需要采用粗拋、精拋等多道拋光工藝）。
5、金剛石拋光劑：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，適合各類(lèi)材料的拋光）。
6、金剛石懸浮液：粒度：40-0.5um（比較廣泛的拋光輔料，更適合自動(dòng)磨拋機(jī)使用）。
7、氧化鋁拋光粉：粒度：30-0.5um
（適合碳鋼類(lèi)樣件的拋光）。
8、磁性磨盤(pán)：更便于更換砂紙及拋光布料。
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